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華澤鋁電電解一廠開(kāi)展氧化鋁濃度控制試驗(yàn)

2011年10月10日 13:40 4052次瀏覽 來(lái)源:   分類: 鋁資訊

  近期,華澤鋁電電解一廠五工區(qū)部分電解槽電流效率持續(xù)偏低,工區(qū)立即多方查找原因,在電解質(zhì)取樣分析氧化鋁濃度后,發(fā)現(xiàn)工區(qū)氧化鋁濃度偏高,是造成電流效率低的主要原因。電解五工區(qū)使用“問(wèn)題樹(shù)”的方法,通過(guò)跟蹤分析發(fā)現(xiàn)造成氧化鋁濃度偏高的主要原因是槽控機(jī)對(duì)電解槽氧化鋁下料的增減量控制沒(méi)有上限,氧化鋁下料進(jìn)入增量期時(shí)間過(guò)長(zhǎng),大量的氧化鋁進(jìn)入電解槽,造成爐底沉淀增多,槽況難以控制,電流效率低。
  對(duì)此,華澤鋁電電解一廠五工區(qū)聯(lián)系信息中心對(duì)工區(qū)部分電解槽更換了槽控機(jī)控制芯片,進(jìn)行氧化鋁濃度控制試驗(yàn)。新的控制芯片主要通過(guò)控制氧化鋁下料的增減量時(shí)間,達(dá)到降低氧化鋁濃度的目的,防止電解槽下料走入反區(qū),減少大量氧化鋁進(jìn)入槽內(nèi),從而減少爐底沉淀,穩(wěn)定槽況,提高電流效率。
  通過(guò)近一個(gè)月的試驗(yàn),更換芯片的電解槽氧化鋁濃度明顯降低,槽況明顯好轉(zhuǎn),電流效率明顯提高。

責(zé)任編輯:lee

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